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熱門關(guān)鍵詞： FLATSCAN薄膜應(yīng)力測(cè)試儀 SWC4000CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗 SWC4000單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī) LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備 SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī) NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī) SurfaceSeer S-201高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims SurfaceSeer I-101SIMS二次離子質(zhì)譜儀 SurfaceSeer ITOF-SIMS飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀 SurfaceSeer S飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 光學(xué)鍍膜設(shè)備光學(xué)鍍膜系統(tǒng) RIE刻蝕機(jī) 進(jìn)口ALD設(shè)備等離子去膠機(jī)

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清洗去膠系統(tǒng)

等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機(jī) 大基片清洗/去膠/濕法刻蝕 MW微波等離子清洗去膠系統(tǒng) 離子束清洗系統(tǒng) 研發(fā)用等離子去膠機(jī)

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SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
型號(hào)：

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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研發(fā)用等離子去膠機(jī)
型號(hào)：

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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SWC4000CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗
型號(hào)：SWC4000

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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SWC4000單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)
型號(hào)：SWC4000

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
型號(hào)：

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)
型號(hào)：

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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等離子去膠機(jī)
型號(hào)：

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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SWC系列/LSC系列兆聲清洗機(jī)
型號(hào)：SWC系列/LSC系列

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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SWC系列/LSC系列硅片清洗機(jī)
型號(hào)：SWC系列/LSC系列

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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SWC系列/LSC系列進(jìn)口晶圓清洗機(jī)
型號(hào)：SWC系列/LSC系列

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間：2025-04-28

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